射频溅射用钽靶材 直流溅射用钽靶材 离子镀溅射用钽靶材 钽靶材绑定焊接 多弧钽靶材 钽靶材定做 平面钽靶材 直径60mm钽靶材 中频交流反应溅射用钽靶材 非对称脉冲溅射用钽靶材 离子束溅射用钽靶材 非平衡磁控溅射用钽靶材 反应磁控溅射用钽靶材 厚5mm钽靶材 高致密高均匀钽靶材 直径50.8mm钽靶材 精车表面钽靶材 精车表面钽靶材 进口钽靶材 磁控溅射钽靶材 溅射钽靶材 实验用钽靶材 低公差钽靶材 钽 科研用钽靶材 金属钽靶材 高纯钽靶材 圆形钽靶材 钽靶材99.95%
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物理性质 |
颜色 |
蓝灰色 |
密度 |
16.65g/cm³ |
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熔点 |
2996℃ |
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技术指标 |
纯度 |
99.99% |
相对致密度 |
>99% |
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切面平整度 |
3.2Ra |
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公差 |
±0.1mm |
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晶粒度 |
均匀 |
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材质 |
冠金利-Ta |
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品牌 |
冠金利-钽 |
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产地 |
北京市 |
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产品规格 |
尺寸01:直径<360mm 厚度>1mm (圆片/圆台/圆棒) |
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尺寸02:长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接) |
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尺寸03:外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm(管材/圆环/旋转靶材) |
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尺寸04::根据用户需要进行定制,来样加工,来图加工 |
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最少起订量 |
1片,量大优惠 |
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供货能力 |
同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/月 |
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交货期 |
单片材料1周内发货,批量材料15天-20天内发货(工作日) |
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制作工艺 |
真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工 |
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适用仪器 |
各类型号磁控溅射设备等 |
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产品用途 |
工业级镀膜,实验或研究级别用 钽靶材,电子,光电,装饰,功能薄膜等 |
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产品优点 |
质量可靠,价格优惠 |
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真空熔炼,提纯制备,纯度高,杂质少 |
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轧制致密,氧化少,成型可塑 |
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相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高 |
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产品附件 |
正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单 |
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包装方式 |
真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 |
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运输方式 |
国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦) |
北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应高纯,高纯靶材,以及靶的相关产品。
常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输
北京冠金利新材料科技有限公司其它高纯靶材及镀膜材料如下:
1 高纯度金属单质包括金属粉、金属颗粒、金属丝、金属块、金属片等。产品包括:纯铁,铜,铝,铅,锌,镍,锡,铬,钒,锰,镁,镉,铋,锑,钛,锆,铪,铟,硒,碲,镓,锗,铼,钨,钼,钽,铌,硼,硅,贵金属等的锭,棒材,丝材,板材,带材,箔材,颗粒,粉末。
2 高纯金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、镀膜材料。金属靶材:铝靶Al、银靶Ag、钴靶Co、铬靶Cr、铜靶Cu、镍靶Ni、钛靶Ti、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、锡靶Sn、铟靶In、铁靶Fe、锆铝靶Zr、钛铝靶Ti、锆靶Zr、钽靶Ta、锗靶Ge、硅靶Si、钨靶W、铪靶Hf、钆靶Gd、钐靶Sm、镝靶Dy、铈靶Ce、钇靶Y、镧靶La 金靶Au 等。
3 合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。
4 陶瓷靶材:ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、等陶瓷靶材。产品通过各种方法(磁控溅射、真空镀等)应用真空镀膜的各种领域:科学研究,航天航空,汽车,微电子,集成电路产业,光源,光学,装饰,平面显示器产业,信息存储产业,数据存储等等。
注所有产品规格可根据客户要求定做。