点击图片查看原图高纯铜靶材
直径60mm铜靶材
直径60mm铜靶材
厚5mm铜靶材
直径50.8mm铜靶材
精车表面铜靶材
非平衡磁控溅射用铜靶材
非对称脉冲溅射用铜靶材
中频交流反应溅射用铜靶材
射频溅射用铜靶材
直流溅射用铜靶材
离子镀溅射用铜靶材
铜靶材绑定焊接
旋转铜靶材
平面铜靶材
多弧铜靶材金属铜靶材
铜靶材
磁控溅射铜靶材
科研用铜靶材
铜靶材99.99%
铜
定做铜靶材
圆片圆形铜靶材
进口铜靶材
实验用铜靶材
高纯铜靶材
低公差铜靶材
高致密铜靶材
反应磁控溅射用铜靶材
离子束溅射用铜靶材
物理性质 颜色 铜红色
密度 8.96g/cm³
熔点 1084℃
技术指标 纯度 99.99%
相对致密度 >99%
切面平整度 3.2Ra
公差 ±0.1mm
晶粒度 均匀
材质 冠金利-Cu
品牌 冠金利-铜
产地 北京市
产品规格 尺寸01：直径<360mm 厚度>1mm （圆片/圆台/圆棒）
尺寸02：长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接）
尺寸03：外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm（管材/圆环/旋转靶材）
尺寸04：:根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工
最少起订量 1片，量大优惠
供货能力 同批次，同材质，持续可靠供应；100kg/月
交货期 单片材料1周内发货，批量材料15天-20天内发货（工作日）
制作工艺 真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
适用仪器 各类型号磁控溅射设备等
产品用途 工业级镀膜，实验或研究级别用铜靶材，电子，光电，装饰，功能薄膜等
产品优点 质量可靠，价格优惠
真空熔炼，提纯制备，纯度高，杂质少
轧制致密，氧化少，成型可塑
相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
包装方式 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式 国内快递承运（顺丰，申通，EMS，德邦）
